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| 品牌 | 其他品牌 | 产地 | 国产 |
|---|---|---|---|
| 加工定制 | 否 |
质量流量控制器 V 系列 MFC
应用场景：MFC 既可应用于半导体前段制程，如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等设备中， 也在光伏能源、真空镀膜等领域有可观的市场。 MFC 可通过对气体流量的精准控制，有效地提供更高的良率。
该系列产品可广泛应用于半导体制造中的 etch（刻蚀）、CVD（化学气相沉积）、PVD（物理气相沉积）、ALD（原子层沉积）、MOCVD（金属有机化学气相沉积）等工艺设备中，也适用于如 MPCVD（微波等离子体化学气相沉积）、解热解冻干燥、石英提纯、医疗废弃物处理等领域。
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